是8厘米。
    淦，放弃放弃！
    然后是7n
    14n
    全部看完，罗离彻底无奈了。
    以他目前的系统积分，居然只能买得起130n级别的光刻机！还特么是duv光源！！
    duv光刻机和euv光刻机能比？
    寒碜谁呢？
    duv光刻机大多采用的是波长为193n级别的氟化氩准分子激光，或者波长为248n的氟化氪准分子激光，单次曝光的极限制程在128n到90n之间，多次曝光虽然可以将精度提升至最高28
    n，但却是以牺牲良品率为代价！
    几乎每重复一次曝光，损坏的几率就增加一倍靠duv光刻机想要造出28n制程芯片，至少需要曝光5次以上！
    先不说你连续曝光五次最终能成功几个，就算成功了，28n也远远解决不了钉子现在的危机。
    更别提暴增的材料成本了。
    光刻工艺的核心资源是一种叫做光刻胶的化学合成剂，这东西在国内也无法制造。
    在层层垄断下，光刻胶的进口量就那么多，其他厂商会允许你这么浪费？
    在目前，duv光刻机受限于精度制程，已经无法满足后来14nc7nc5n等更高制程的需求了，这时候就需要依靠euv光刻机。
    euv光刻机采用的是一种135n的极紫外光，可以在大约200平方毫米的面积下集成超过105亿颗晶体管。
    用euv光刻机制造7n级芯片，只需要曝光一次。
    在现阶段，
    国产芯片仅能满足日常生产生活的基础要求，高端光刻机无法进入国内，高级芯片生产的困难还是很严峻。
    钉子如果想真正解决芯片的问题，第一件需要解决的就是光刻机精度。
    “既然不能制造光刻机，那能不能对现有的光刻机制程进行改进？”
    罗离忽然有了一个大胆的想法。
    众所周知，光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，随着科技的进步，极限光源的波长也在不断缩小，从duv光源的248n级数不断突破，一直来到现在的135n极紫光束，进步不可谓不大。
    这也是现在芯片技术能突破个位数的根本原因。
    既然无法从其他资本手中买到高级光刻机，也无法凭空从系统中兑换，那有没有可能通过系统的黑科技技术，将国内现有的光刻机工艺水平提升到世界水平
    思绪至此，罗离的心跳开始加快。
    对啊，
    改装升级的成本可比从无到有低多了，而且现在国内的芯片工艺也不算太拉胯，要是
    罗离没有丝毫犹豫，马上打开系统兑换窗口，然后在搜索框中输入文字。
    再度摒弃一系列花里胡哨的科幻风选项，罗离一口气直接将列表拖拽到最底下。
    一行不起眼的小字出现在眼前。
    【“稳态微距束”技术：20万积分；】
    光速浏览完介绍，罗离瞪大了眼睛。
    就你了！
    咬咬牙，直接选择兑换！！
    “唰！”
    强光一闪而过。

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